國內首條量子芯片生產線亮相央視 雷博科儀設備助力量子芯片光刻

在《流浪地球2》中，智能量子計算機MOSS作為隱藏的幕后黑手，讓擁有強大計算能力的量子計算機再一次成為熱點。MOSS并非純粹的科學幻想，現實中量子計算機的研究早已起步，并取得了實際成果。

我國在量子計算機領域走在世界前列。近幾年，“九章”“祖沖之號”量子計算機先后問世并完成升級，在超導量子系統、隨機線路采樣任務等方面實現了量子計算*性。而最新量子計算機“悟空”也即將在合肥本源量子的實驗室問世，有望成為國內頂尖的實用量子計算機。

近日，為“悟空”生產配套量子芯片——“悟空芯”的國內首條量子芯片生產線通過央視直播展現在觀眾面前。據報道，該條產線于2022年1月投入運營，在一年時間內，陸續導入24臺量子芯片生產相關的工藝設備，孵化出了3套自研的量子芯片專用設備。其中，江蘇雷博科學儀器有限公司（以下簡稱“雷博科儀”）研發的AC200-SE-CTM 自動勻膠機和AC200-S-CTM自動顯影機成為該條產線勻膠工藝和顯影工藝的專用設備。

 

 

量子芯片工作在-270℃左右的環境中，與普通芯片有較大區別，因此量子芯片的材料、生產工藝等也與普通芯片不同，這對生產設備提出了特殊的要求。該條產線所用的AC200-SE-CTM 自動勻膠機和AC200-S-CTM自動顯影機由雷博科儀為量子芯片生產專門定制。勻膠機為自動擺臂與4路滴膠功能，顯影機則是擁有雙自動擺臂、3路顯影、1路純水、1路氮氣的功能，可處理1cm至8英寸晶圓。

 

自動顯影機

 

 

自動勻膠機

 

AC系列是雷博科儀旋涂薄膜制備類產品線的代表，應用于量子芯片生產線的AC200衍生機采用模塊化設計，支持去邊、背洗、勻膠、顯影、清洗等功能模塊個性化定制，可快速拆卸和替換原有功能模塊，操作便捷。同時AC200衍生機還配載了精密的運動控制系統，可提高實驗精度及重復性。

 





勻膠和顯影是芯片生產核心工藝——光刻工序的重要步驟。光刻工序分為涂膠、曝光、顯影三大步驟，首先用勻膠機將光刻膠涂覆在晶圓表面，再用光刻機進行曝光，然后利用顯影機進行圖形顯影。勻膠和顯影直接影響光刻工序圖形的質量，圖形質量也對后續蝕刻和離子注入等工藝有著重要影響。雷博科儀成為國內首條量子芯片生產線勻膠和顯影設備的提供者，不僅驗證了其在涂膠顯影設備技術上的先進性，也說明了國產涂膠顯影設備已經可以滿足部分高端芯片生產。

據了解，在晶圓加工領域，涂膠顯影設備主要被日本東京電子有限公司壟斷。除光刻機外，涂膠顯影設備的國產化替代也是國內芯片產品發展的重要課題。目前，國產涂膠顯影設備廠商正在迎頭趕上，逐步打破進口產品壟斷并填補國內空白，雷博科儀也在為實現涂膠顯影設備的國產化替代而努力。在量子芯片生產線發光發熱的涂膠顯影設備，在普通芯片生產中也能夠提供令人滿意的成果。

為解決芯片的“卡脖子”問題，我國對國產芯片產業提供了政策、資金等多方面的大力支持。近年來，我國不僅在硅基芯片上，在光量子、超導量子、碳基芯片等新型芯片領域也接連實現重大突破，芯片產業的自立自強在逐步推進。這是國產芯片產業的高速發展時期，也是雷博科儀等芯片生產設備廠商的重要舞臺。助力國產芯片的發展，雷博科儀已做好準備。