噴金儀是在封閉腔室中,放置陽(yáng)極靶材,充入氣體,保持一定的真空度,在陽(yáng)極和陰極之間加載高壓,會(huì)發(fā)生輝光放電現(xiàn)象。電離的氣體離子會(huì)轟擊、侵蝕陽(yáng)極靶材。靶材原子會(huì)因此向四周擴(kuò)散,并在樣品上沉積,最終在樣品表面形成一個(gè)均勻的鍍層。這個(gè)鍍層可以抑制荷電,減小熱損傷,提高二次電子產(chǎn)率,從而改善掃描電鏡觀察效果。
噴金儀的功能特點(diǎn):
1、通過高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過程,避免樣品表面受損。
2、操作容易快捷,控制的參數(shù)包括放氣以及氬氣換氣控制。
3、可用MTM-10高分辨膜厚控制儀(選件)精確測(cè)定所鍍膜的厚度。
4、數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氬氣壓力影響,可得到一致的鍍膜速率和最佳的鍍膜效果。
5、可使用多種金屬靶材:Au,Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶為標(biāo)配),靶材更換快速方便。
噴金儀選擇合適的氣體以及靶材,就可以用來為掃描電鏡的樣品鍍層。對(duì)樣品表面濺射金屬鍍層有以下好處:
(1)減少電子束對(duì)樣品的損傷。
(2)提高導(dǎo)熱性能。
(3)減少樣品荷電(提高導(dǎo)電性)。
(4)提高二次電子產(chǎn)率。
(5)減小電子束穿透效應(yīng),提高邊緣分辨率。
(6)保護(hù)電子束敏感樣品。
然而,為了獲得更細(xì)小的晶粒尺寸、更薄的連續(xù)鍍層,有時(shí)候也會(huì)使用其他靶材(比如鉻)。這些靶材對(duì)真空度的要求更高,需要額外配置分子泵方可達(dá)到要求。